四碘化硅
| 四碘化硅 | |||
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| 別名 | silicon tetraiodide Tetraiodosilane | ||
| 識別 | |||
| CAS號 | 13465-84-4 
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| PubChem | 83498 | ||
| ChemSpider | 75335 | ||
| SMILES |
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| InChI |
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| InChIKey | CFTHARXEQHJSEH-UHFFFAOYAL | ||
| 性質 | |||
| 化學式 | SiI4 | ||
| 摩爾質量 | 535.7034 g·mol⁻¹ | ||
| 外觀 | 白色粉末 | ||
| 密度 | 4.198 g/cm3 | ||
| 熔點 | 120.5 °C（394 K） | ||
| 沸點 | 287.4 °C（561 K） | ||
| 溶解性（水） | 不溶 | ||
| 溶解性（有機溶劑） | 可溶 | ||
| 結構 | |||
| 分子構型 | 正四面體 | ||
| 危險性 | |||
| 警示術語 | R：R61-R24/25-R34-R42/43 | ||
| 安全術語 | S：S53-S26-S36/37/39-S45 | ||
| 歐盟分類 | 未列出 | ||
| NFPA 704 |
 0
2
0
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| 閃點 | -18 °C | ||
| 若非註明，所有數據均出自標準狀態（25 ℃，100 kPa）下。 | |||
四碘化硅是一種無機化合物，化學式為SiI4。它是正四面體形的分子，Si-I鍵的鍵長為2.432(5) Å。[1]
SiI4是製備硅酰胺（化學式：Si(NR2)4）的前體。[2]在微電子學它還用於硅的生產與蝕刻。
參考資料
[編輯]- ^ Kolonits, Maria; Hargittai, Magdolna. Structural Chemistry. 1998, 9 (5): 349. doi:10.1023/A:1022462926682. 缺少或
|title=為空 (幫助) - ^ Banerjee, Chiranjib; Wade, Casey R.; Soulet, Axel; Jursich, Gregory; McAndrew, James; Belot, John A. Direct syntheses and complete characterization of halide-free tetrakis(dialkylamino)silanes. Inorganic Chemistry Communications. 2006, 9 (7): 761. doi:10.1016/j.inoche.2006.04.027.
外部連結
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